Chemical Vapor Deposition

定义 Definition

化学气相沉积（常缩写 CVD）：一种薄膜制备/涂层工艺，通过将含有目标元素的气态前驱体引入反应腔，在加热（或等离子体等）条件下发生化学反应，使固体材料在基底表面沉积成薄膜或涂层。常用于半导体、光学涂层、防护涂层与功能材料制备。（该术语在不同工艺变体中含义会扩展，如 PECVD、LPCVD 等。）

发音 Pronunciation (IPA)

/ˈkɛmɪkəl ˈveɪpər dɪˈpɑːzɪʃən/

例句 Examples

We used chemical vapor deposition to coat the glass.
我们使用化学气相沉积在玻璃表面形成涂层。

By adjusting the gas flow and temperature, chemical vapor deposition can produce uniform films on complex 3D structures.
通过调节气体流量和温度，化学气相沉积可以在复杂的三维结构上制备均匀薄膜。

词源 Etymology

该短语由三部分构成：chemical（化学的）+ vapor（蒸气/气相）+ deposition（沉积）。其中 deposition 源自拉丁语词根，意为“放下、沉积”。整体字面含义即“通过化学反应在气相中实现材料沉积”，后来在材料科学与半导体制造领域固定为专门术语，并广泛使用缩写 CVD。

相关词 Related Words

• Thin Film
• Deposition
• Sputtering
• Evaporation
• Atomic Layer Deposition
• Epitaxy
• Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
• Precursor
• Reactor
• Semiconductor

文献与著作 Notable Works

• Thin Film Processes（Vossen & Kern 编）：薄膜工艺经典参考书，系统讨论包括 CVD 在内的多种沉积方法。
• Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications（Hitchman & Jensen）：专门介绍 CVD 原理、反应机理与应用场景的权威教材。
• Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology（收录多位作者）：半导体制造手册中常以 CVD 作为关键制程章节出现。
• Journal of Vacuum Science & Technology（期刊）：真空与薄膜领域核心期刊之一，CVD 相关研究论文长期高频出现。