这是一个创建于 1524 天前的主题，其中的信息可能已经有所发展或是发生改变。
我们知道芯片制造中的刻蚀工艺分为湿法刻蚀和干法刻蚀，干法刻蚀一般是能量束刻蚀，目前干法刻蚀主要是等离子刻蚀，但能量束包括离子束、电子束和激光束，那么干法刻蚀中能用激光束刻蚀代替等离子刻蚀吗？二者的效果会有什么区别。
 |
1
loading 2020-09-23 10:11:27 +08:00 via Android
聚焦透镜你做好了？
|
Select Language